XTPL otrzymał od Japońskiego Urzędu Patentowego patent na metodę formowania linii o szerokości poniżej 1 mikrometra z wykorzystaniem opracowanego tuszu zawierającego nanocząstki srebra, podała spółka. Ostatecznym wymogiem formalnym uzyskania patentu jest wniesienie opłaty za jego wydanie.
Poza Japonią powyższe zgłoszenie objęte jest już ochroną w Stanach Zjednoczonych, Chinach i Niemczech. XTPL prowadzi działania do uzyskania ochrony w kolejnych krajach m.in. Izraelu, Wietnamie i na Tajwanie, podano.
„Procedura zgłoszeniowa dla tego patentu została rozpoczęta 22.03.2016 roku. Jest to również data, od której obowiązuje ochrona. […] Uzyskana ochrona patentowa wpłynie na podniesienie wartości potencjalnej komercjalizacji technologii spółki w zakresie wdrożenia przemysłowego. Opisane zdarzenie stanowi potwierdzenie realizacji przez spółkę strategii budowania chmury patentowej dla rozwijanej technologii oraz produktów, co stanowić będzie element budujący wiarygodność emitenta wobec potencjalnych klientów przemysłowych” – czytamy w komunikacie.
XTPL rozwija i komercjalizuje na światowym rynku addytywną technologię umożliwiającą ultraprecyzyjne drukowanie nanomateriałów. Technologia ta ułatwi m.in. produkcję wyświetlaczy nowej generacji, inteligentnego szkła z zaawansowanymi funkcjonalnościami, innowacyjnych zabezpieczeń antypodróbkowych czy paneli fotowoltaicznych o zwiększonej wydajności. Obecnie XTPL komercjalizuje swoją technologię w dwóch pierwszych polach aplikacyjnych: wyświetlaczy oraz smart glass. Akcje spółki zadebiutowały na rynku głównym GPW w lutym 2019 r.
Źródło: ISBnews
